宇晶股份：现在我公司的高精密双面研磨设备化学机械抛光设备都已在国内闻名半导体碳化硅加工厂验证运用

产品概述：

 

  每经AI快讯，有投入资金的人在出资者互动渠道发问：董秘：您好！检查有相关的材料得知，半导体硅片制作需求研磨设备、CMP 抛光设备，请问公司的研磨设备、 抛光设备是不是可以用于该范畴？

  宇晶股份（002943.SZ）11月24日在出资者互动渠道表明，现在我公司的高精密双面研磨设备，化学机械抛光设备都已在国内闻名半导体碳化硅加工厂验证运用。

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