什么是平面抛光机以及抛光机的效果

产品概述：

 

  平面抛光机，望文生义，便是把一些物体的外表的毛精糙部分，整理掉，以到达镜面效果。平面抛光机操作的关键是要设法得到大的抛光速率，以便赶快除掉磨光时发生的损害层。

  抛光分为两个阶段进行。粗抛意图是去除磨光损害层，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛构成的表层损害是非必须的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其意图是去除粗抛发生的表层损害，使抛光损害减到小。

  平面抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应肯定平行并均匀地轻压在抛光盘上，留意防止试样飞出和因压力太大而发生新磨痕。一起还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以防止抛光织物部分磨损太快在抛光过程中要不断增加抛光液或其它抛光助剂，使抛光织物坚持必定湿度。湿度太大会削弱抛光的磨痕效果，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相发生“曳尾”现象；湿度太小时，因为冲突生热会使试样升温，光滑效果减小，磨面失去光泽，甚至会呈现黑斑，轻合金则会抛伤外表，会呈现发黄的现像